“董事长，要是Nikon在我们之前，率先攻克157nm激光器技术，率先研发成功65nm制程工艺的光刻机，我们如何应对？”

　　 CTO汤普森知道EUV光刻机不是短时间内能研制成功的，也主张两条腿走路，GCA研究院如今也在研发157nm激光器，由于GCA一直以研发EUV为主，157nm激光器的技术远不如Nikon和SVG，投资10美元，要是能够收购SVG，拿到SVG独有的157nm激光器需要配置的反折射镜头技术，不能反超Nikon，也能同Nikon并肩齐驱。

　　 孙董事长不同意公司收购SVG，汤普森也不理解。

　　 EUV LLC联盟规划投资2亿美元，集合200多位顶尖科学家，目的就是从理论上验证了EUV光刻机的可行性？理论验证完成后，EUV LLC联盟将宣布解散，将研制EUV和EUV光刻机的难题交给GCA，据同行在一起估算，研发投资起码要花50亿美元！

　　 汤普森领导EUV LLC联盟的200多位科学家，研究了2年多，还没有验证清楚EUV光刻机的可行性？

　　 “汤普森院长的担忧也有道理，除了加强研发力量继续研究157nm激光器技术外，艾德里安先生可以同Papken先生接触一下，看对方是否愿意出售反折射镜头技术的专利？价格可以商量?”

　　 Papken是SVG的首席执行官。

　　 孙健本来不想在董事会上谈论收购SVG的事情，但汤普森的提问代表GCA高层的疑惑，不得不正面回应。

　　 当时因为BSEC研究院光源研究所还没有研发成功193nm浸没式光刻机技术，孙健不反对GCA研究院两条腿走路，但BSEC研究院光源研究所去年已经研发成功193nm浸没式光刻机技术，GCA再继续投入巨资研发157nm激光器就是多此一举，但也不能打击众人的积极性。

　　 “好的，董事长！”

　　 艾德里安心里好奇，为什么孙董事长不同意收购SVG？似乎对研发157nm激光器技术不是特别支持，难道还有更好的方法？明白Papken不会低价出售反折射镜头技术的专利。

　　 “汤普森院长，EUV LLC联盟一旦从理论上验证了EUV光刻机的可行性后，要是GCA继续研发EUV光刻机，理论上大概需要多少投资?”

　　 孙健转移话题，也是告诉公司高层，GCA账上的现金流不是多了，而是远远不够。

　　 前世，EUV LLC联盟的几百位顶尖科学家在一起联合研发了6年多，发表了几百篇科研论文，从理论上验证了EUV光刻机是可行的，目的达到，解散了EUV LLC联盟，接下来的实际问题都抛给了ASML，面对如此高深的技术，ASML是选择做还是不做？

　　 ASML一家之力不可能完成研制成功EUV光刻机这项宏伟工程，不得不拿出公司近三成的股权，向下游光刻机重要客户Intel、台积电和三星电子融资了60多亿美元！

　　 据说为了研发EUV光刻机，ASML前前后后在将近20年时间内投入上百亿美元的研发费用。

　　 GCA和Nikon占据光刻机的高端市场，技术水平不分仲伯，但由于高端光刻机用户Intel、IBM、IT、ADM、HP同GCA既是Sematech会员，又是GCA的股东，采用一致对外的策略，GCA的高端光刻机是首选，GCA如今占据全球高端市场份额的近7成，NiKon占3成多。

　　 在技术水平相同的情况下，市场起决定因素。

　　 根据光刻机技术和市场占有率，GCA如今成为名副其实的全球老大，Nikon屈居第二。

　　 Nikon想从GCA的手里抢回Intel、IBM、IT、ADM、HP的高端光刻机订单，只能率先攻克193nm波长的世界性难题，第一个研发成功65nm制程工艺的光刻机才有可能。

　　 在Nikon技术领先的情况下，Intel、IBM、IT、ADM、HP就会以公司的利益为重。

　　 ASML的工程师琼斯带领20多人的研发部门经过3年多时间的研发，于1996年9月，研发成功全球第二款具有自主知识产权的光刻机双工作平台系统，但为时已晚，ASML和其他光刻机公司都购买了BSEC的专利技术，自己生产光刻机双工作平台系统，BSEC负责升级；除了GCA，其他公司生产一台光刻机需要缴纳相当于每台光刻机售价1%的专利使用费。

　　 GCA如今已经升级配套90nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统技术，遥遥领先于ASML的技术，按照专利技术转让协定，BSEC交给了Nikon、ASML、Canon和SVG。

　　 全球光刻机用户已经习惯使用BSEC磁悬浮式双工作台系统技术，ASML在中高端光刻机上还是使用BSEC的，在低端光刻机上使用自研的。

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